二甲基二氯硅烷水解物在惰性溶剂中KOH存在下催化裂解重排，馏出DMC。再从 DMC中分懷出D4，将D3及D5以上馏分并人水解物中，再裂解重排。这种工艺的特点是 KOH—次性加人到反应系统中，而且用量少；最终产物为D4。
选用的惰性溶剂，应能溶解水解物，并且在裂解反应条件不与水解物及KOH发生反
应，在裂解反应温度下不挥发，沸点应大于Ds。具体如二苯醚、联苯、十八烷、1，2，3， 4一四氢萘等。裂解反应器中的惰性溶剂量，可按水解物滞留量的0.2〜1.0质量比，KOH 为溶剂量的0.05〜0.1质量比。反应温度140 X：〜180 °C，减压下使反应物处于沸腾状态， 并不断饱出。图4一6及图4一7为实施工艺的示意图（1为水解物贮罐，2为定量泵，3为 水解物与后述精馏塔顶馏出物的混合受器，4为定量泵，5为连接分馏塔V的反应器，6 为冷凝器，7为控制回流比的分饱头，8为受器，9为定量泵，10为中央部位进料的精馏 塔，11为冷凝器，12为控制回流比的分馏头，13为定量栗，14为受器，15为真空度调 节伐，16为定量泵，17与18为加热器，19为精饱塔，20为冷凝器，21为分馏头，22为 定量泵，23为加热器)。
按图4—6所示，C耀1中的二甲基二氯硅院水解物用泵2送至受器3。受器3中的水 解物用泵4送至装有二苯醚与催化剂KOH混合物的反应器5中。反应器5用加热器17加 热，同时用真空泵16及真空度调节伐15保持减压状态，使裂解反应产生的挥发性环硅氧 烷蒸发，进入分饱塔分饱，D3、D4的环状二甲基硅氧烷馏出进人受器8中。高沸点的环 状二甲基硅氧烷由分溜塔回流至反应器5。